Photronics는 고품질의 포토마스크를 제공하기 위해서 고객 기술에 대한 긴밀한 협력과 지식이 필요하다는 것을 알고 있습니다.
연구 개발의 노력에 대하여 당사가 포토마스크 기술의 최전선에 머무르는 것을 약속드립니다. 당사의 최첨단 전자빔 패터닝 및 검사 도구, 새로운 저항 및 재료, 고급 개발 및 드라이 에칭 공정을 통해 고급 마스크 요구 사항에 맞는 CD(critical dimension) 균일성, 오버레이 및 결함 제어를 성취할 수 있습니다.
중요한 R&D 투자, 전략적 파트너십, 고객 및 대학과의 프로젝트를 통해 현재와 미래의 요구를 충족시킬 수 있는 기술 전문 지식을 유지하고 있습니다.
귀하의 목표를 달성하기 위해 당사의 첨단 기술을 가장 잘 사용할 수 있는 방법은 아래와 같습니다.
고성능 투과성 임베디드 감쇠 위상 변이 마스크 (EAPSM)
Photronics는 해상도와 초점 심도를 향상시켜 웨이퍼 노광 장비의 수명을 최첨단 기술 노드까지 연장하는 생산 수준 조정 및 고투과 EAPSM의 세계적인 선도 기업입니다.
교차 간극 위상 변위 마스크 (AAPSM)
단일 트렌치, 트라이 톤, 3단 테라스 디자인, 크롬리스 위상 리소그래피(CPL)가 필요할 때, 당사 AAPSM을 사용하여 100 % 투과 시, 180 위상 변화로 실리카에 패턴을 직접 식각 할 수 있어 이론적으로 최고의 k-1 개선을 얻을 수 있습니다.
그레이 스케일 마스크, 광학 격자
당사는 포토닉스, 얇은 필름 헤드, 그레이 스케일 이미징, 광학 격자와 같은 분야의 특수 목적 마스크를 제공하고 있습니다.