Photronics의 겸손한 출발부터 글로벌 포토마스크 기술의 리더 자리에 오르기까지 각 업적은 다음과 같습니다. 당사가 이뤄온 업적의 이정표마다 고객의 지원과 신뢰, 직원의 헌신과 전문성, 파트너와 이해 관계자의 엄청난 노력이 함께 해왔습니다. 이제 당사는 레티클 및 포토마스크 기술, 솔루션 분야의 글로벌 리더입니다. 길고 성공적인 여행을 함께한 모든 분들께 감사드리며, 당사의 역사적인 타임라인은 아래에서 확인하실 수 있습니다.
1969
Photronics庆祝中国高端制造工厂的隆重开业。
1978
회사의 급성장으로 Danbury와 인접한 CT, Brookfield에 있는 대규모 시설로 이전.
1982
최초 전자빔 리소그래피 시스템 MEBES I 설치.
1985
지속적인 확장을 위해 Brookfield 캠퍼스에 새로운 2만 평방 피트 건물 추가 설립.
1987
신규 상장 완료. 나스닥에 PLAB 심볼로 상장.
1989
Martin Marietta Corporation의 캡티브 포토마스크 제조 공정을 인수하여 Brookfield 시설에 통합.
1990
Photronics, Inc.로 개명. 두번째 공개 모집 완료.
1991
Analog Devices의 캡티브 포토마스크 제조 공정이 인수됨. 세번째 공개 모집 완료.
1992
Unisys Corporation의 캡티브 포토마스크 제조 작업과 자산 인수.
1993
Photronics가 Toppan Printonics(이전의 Texas Instruments Photomask Shop) 및 Raytheon Company의 포토마스크 운영 인수.
1994
달라스 교외 지역인 앨런(Allen, Texas)지역이 회사 대표 시설 공사가 시작되면서 지반이 무너짐. 캘리포니아 주 서니 베일 소재의 독립 포토마스크 제조업체 Hoya Micro Mask, Inc. 인수.
1995
싱가포르에서 제조업을 시작할 계획 발표. Microphase Laboratories, Inc. 및 GEC Plessey Semiconductors의 캡티브 포토마스크 운영(북미 이외의 지역에서 최초로 완전하게 소유된 제조 현장) 인수
1996
Photronics가 PK Ltd에 소수 지분을 투자하여 한국 및 평면 디스플레이 시장에 진출. 유럽에서 스위스 노이샤텔에 있는 CSEM Litomask의 포토마스크 제조 인수, 영국 맨체스터의 지반 무너짐.
1997
Photronics가 미국의 Motorola와 독일 드레스덴의 독립 포토마스크 제조업체인 MZD 인수.
1998
유럽 기반의 비영리 연구 컨소시엄인 IMEC에 포토마스크 최초 납품
1999
Photronics와 IBM이 함께 차세대 리소그래피 마스크 역량 센터(NGL-MCOC) 설립.
2000
대만의 포토마스크 기술 선도업체인 Precision Semiconductor Mask Corporation (PSMC)의 대부분을 인수. PSMC는 Photronics의 자회사가 됩니다. Photronics와 Align-Rite International, Inc.는 합병 통해 세계에서 가장 크고 빠르게 성장하는 전략적 포토마스크 공급 업체 중 하나를 창출했습니다.
2001
Photronics가 MIT 링컨 연구소와 함께 100nm 미만의 특징을 생성할 수 있는 능력을 가진 Sub-Wavelength Reticle SolutionsTM의 위상천이 포토마스크 개발. Photonics가 Conexant의 캡처 포토마스크 매점 인수.
2002
Photronics는 CyberMask ™를 소개합니다. (CyberMask ™는 반도체 제조사와의 완벽한 인터페이스를 촉진하여 레티클 제조를 위한 집적 회로 설계 데이터를 수신하고 준비하는 독점 소프트웨어 제품입니다.)
2004
Rochester Institute of Technology와 Photronics는 액침 노광 시스템을 활용한 45nm 노드 웨이퍼 이미징 기술의 첫 번째 데모 제작.
2005
FPD 제조 인프라를 대만으로 확장하기 위해 새로운 평면 패널 디스플레이 마스크 생산 시설 건설 시작.
2006
Photronics와 Micron Technology가 최첨단 및 차세대 반도체용 포토마스크를 개발, 생산하기 위해 MP Mask Technology Center로 알려진 합작 투자사 설립. 아이다 보이즈(Boise, Idaho)에서 나노 팹(nanoFab)라는 이름으로 지어진 100 % 당사 소유의 집적 회로 제조 시설에 대한 기공식 개최.
2007
생산력을 확장하고, Taichung(대만의 평면 디스플레이 제조 시설)에 G7.5 기능 추가.
2008
Boise가 첫 생산 레티클 출하.
2014
다이 니폰 프린팅(Dai Nippon Printing)과 대만의 PDMC 합작 회사를 설립하여, 전략적 요충지인 대만 시장에서 최대의 포토마스크 공급 업체로 자리 매김함.
2015
Peter Kirlin 박사가 CEO로 승진했습니다. Micron Technology, Inc.와 전략적 공급 및 기술 협약 체결
2016
Photronics가 중국 샤먼(Xiamen) 최첨단 IC 제조 시설 건설에 1억 6000만 달러 투자 계획 발표.
2017
Photronics가 중국 허페이(Hefei)에 최첨단 FPD 생산 시설 건설에 1억 6000만 달러 투자 계획 발표.
2018
Photronics가 샤먼에 있는 시설을 포함하여 중국의 모든 IC 판매, 마케팅, 유통 및 제조를 운영 위해 Dai Nippon Printing과 함께 중국에서 합작 투자 회사 발표.
2019
Photronics는 중국 하이 앤드 제조 시설 그랜드 오픈을 축하.