我们白手起家，如今跻身全球光掩模技术的领导者。全靠客戶的支持與信賴、員工的奉獻精神與專業，以及合作夥伴和利益相關者的巨大貢獻，我們方能奠下重要的里程碑。今天，我们是光掩膜和光掩模技术和解决方案的全球领先企业。衷心感谢每一位陪伴我们走过这一漫长的成功旅程的人。请参阅下方历程表。
1969
Photronic Labs, Inc.,成立于康涅狄格州丹伯里。
1978
为了应对快速增长，公司从丹伯里搬迁至邻近康涅狄格州布鲁克菲尔德的一家更大的工厂。
1982
安装了第一套电子束光刻系统MEBES I。
1985
布鲁克菲尔德厂区新增了一栋两万平方英尺的新建筑，以适应持续的扩张。
1987
完成首次公开募股。公司在纳斯达克上市，股票代码为PLAB。
1989
收购马丁·玛丽埃塔公司的专属光掩模制造业务并整合到布鲁克菲尔德工厂。
1990
Photronic Labs, Inc.更名为Photronics, Inc. 并完成第二次公开募股。
1991
收购亚德诺半导体技术有限公司的专属光掩模制造业务。完成第三次公开募股。
1992
收购优利公司的专属光掩模制造业务。
1993
Photronics收购Toppan Printonics（原得克萨斯器具厂光掩模厂）的光掩模业务，还有Raytheon公司。
1994
德克萨斯艾伦工厂破土动工，收购了独立的光掩模制造公司Hoya Micro Mask, Inc.。
1995
宣布了在新加坡开始生产运作的计划。收购了Microphase Laboratories, Inc.和GEC Plessey Semiconductors的专属光掩模业务（北美之外的首家全资制造厂）。
1996
Photronics入股投资PK Ltd.公司，进入韩国和平板显示市场。在欧洲，收购瑞士纳沙泰尔CSEM Litomask公司的光掩模制造业务，英国曼切斯特工厂破土动工。
1997
Photronics收购摩托罗拉在美国的专属光掩模制造业务，及德国德累斯顿的独立光掩模制造商MZD。
1998
Photronics成为第一家加入IMEC的光掩模供应商，后者是以欧洲为基地的非营利性研究联盟。
1999
Photronics与IBM成立了下一代光刻掩模赋能中心（NGL-MCOC）。
2000
Photronics收购了台湾光掩模技术的领军企业精密半导体掩模公司（PSMC）的多数股权。PSMC成为Photronics的子公司。Photronics与Align-Rite国际公司完成合并，成为世界上最大成长最快的战略光掩模供应商之一。
2001
与麻省理工林肯实验室合作，Photronics开发了亚波长光掩模解决方案TM相移掩模，展示了制造 100纳米以下级别产品的能力。Photonics收购了Conexant的专属光掩模工厂。
2002
Photronics引进了自主软件协议CyberMaskTM，这有利于与半导体制造商的无缝对接，为分划板制造接收和准备集成电路设计数据。
2004
罗彻斯特理工学院和Photronics合作，利用沉浸式光刻系统首次演示45nm节点晶圆成像技术。
2005
Photronics开始兴建新的平板显示器掩模制造工厂，以将FPD生产基础设施扩展至台湾。
2006
Photronics在台湾台中市启动了最先进的平板显示器制造工厂，为亚洲快速增长的显示器产业提供更多的服务。Photronics与美光科技公司成立名为MP Mask Technology Center的合资公司，研发和生产用于尖端半导体和下一代半导体的光掩模。
2007
Photronics扩大了生产能力并增加了G7.5台湾台中平板显示器制造工厂的产能。
2008
博伊西工厂起运首批光掩模产品。
2014
Photronics在台湾与大日本印刷公司创立PDMC合资企业，成为具有重要战略意义的台湾市场上最大的商用光掩模供应商。
2015
Photronics晋升Peter Kirlin博士为首席执行官。Photronics与美光科技有限公司签订了战略供应和技术协议。
2016
Photronics宣布投资1.6亿美元在中国厦门兴建最先进的IC制造工厂，并于2018年末开始投入生产。
2017
Photronics宣布投资1.6亿美元在中国合肥兴建最先进的FPD制造工厂，并于2019年早春开始投入生产。
2018
Photronics与大日本印刷公司成立了第二家合资公司，将2014年在台湾成功开始的IC合作关系扩展到现在涵盖中国大陆的所有销售、营销、分销和制造，包括厦门的工厂。
2019
Photronics庆祝中国高端制造工厂的隆重开业。